TAC(Tetrahedral Amorphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無氫DLC（類金剛石）涂層，其膜層可以達到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量，具有極高的硬度極低的摩擦系數、高彈性模量、寬透光范圍、良好的化學惰性等優點，其物理化學性質和金剛石極其類似。

應用范圍：在微電子工業、半導體器件、高精密模具、數據存儲、汽車等領域具有更大的優勢。

目前現有的成熟技術制備的Ta-C涂層硬度基本穩定在HV2500-3000，一般而言，在涂層結合力達標的情況下，涂層的硬度和耐磨性能成正比，對于一些特殊情況下的使用，現有成熟技術制備的Ta-C 涂層很難達到HV4500-5500的超硬要求。
而超硬類金剛石涂層工藝可大幅增加膜層硬度。