PVD真空鍍膜設備 電磁過濾/電磁掃描系統 納米涂層制備
純離子核心技術
電磁過濾系統
可將離子源產生的等離子體中的中性粒子、大型離子團等接近過濾干凈;經過磁過濾后沉積粒子的離化率接近;達到了“聚離子束”的目的,配合電磁掃描系統。
電磁掃描系統
配合電磁過濾系統,將純離子束流,按照程序軟件設定,控制改變束流方向,實現大范圍的均勻的薄膜沉積;膜層均勻性可以控制在3%—5%,而傳統鍍膜技術的均勻性只有10%左右。
注明:以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數據
展開全文
相關產品