通過真空離子鍍膜制備的金屬膜層相比蒸鍍、濺鍍具有如下幾個優點：

1.附著力好，膜層不易脫落；

2.繞射性能好，可以將待鍍物品所有表面均勻鍍上薄膜；

3.膜層質量高，組織致密。