設備簡介：

專為科研院所及高校定制的小型濺射鍍膜或電子束蒸發設備

可兼容多種規格的圓形平面濺射靶、E型電子束蒸發源 

可根據需求選用單腔室或雙腔室，亦可增加高壓反應腔室

全自動軟件控制，易于上手的操控界面，安全易用。

特點及優勢：

可根據實驗室及項目特殊需求，快速定制；

具備豐富的接口及可拓展性； 

界面簡單易用，有利于防止人為操作錯誤；

提供強大的工藝技術支持。

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室檢測數據