PIS系列設備主要是（集）純離子鍍膜技術（PIC）、 高能離子束清洗技術（IONBEAM）和磁控濺射技術（SPUTTER）三種技術融合一體，可適應廣泛鍍膜靶材，無論金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜及成膜，使膜層具有高致密度、超硬、耐磨損、耐腐蝕等特點。可鍍制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、超級類金剛石膜（TAC、DLC）、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和復合膜層。可編程序控制器（PLC）+觸摸屏（HMI）組合電氣控制系統，全自動控制。

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