IS系列磁控濺射鍍膜設備主要是（集）高能粒子束清洗技術（IONBEAM）和磁控濺射(SPUTTER)兩種技術融合一體，可以適應廣泛鍍膜靶材，無論是金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜及成膜，使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性好等特點。可鍍制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、Cu、Au、金剛石膜（DLC）、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和復合膜層。采用可編控制器PLC+觸摸屏HMI組合電氣控制系統，實現全自動控制。

純源鍍膜歡迎廣大客商前來采購/加盟。