PECVD連續式磁控濺射鍍膜設備生產線：是采用多個真空腔室組成的連續鍍膜成產線模式，各階段的真空腔室可按要求定制定數。制備在低壓和升溫的情況下，等離子子發生器直接裝在鍍膜板中間發生反應。采用射頻PECVD化學氣相沉積技術，沉積速率快，成膜質量好，可鍍膜氧化物薄膜、氮化物薄膜、無定型硅薄膜和碳化硅薄膜等。

技術優勢

1、實現薄膜沉積工藝的低溫化。工藝控制靈活、安全、便捷，在工藝程序上可操作性更大；在溫控、功率和氣壓控制方面都是全自動控制；

2、全自動控制系統更安全、便捷；節省能源，降低成本；

3、提高產能，延長基片壽命；

4、沉積速率快，成膜質量好；

5、安全性能更好，穩定性高，工藝穩定性好，膜層均勻性更好；

6、連續式磁控濺射鍍膜設備生產線主要用于表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜等膜層；

7、設備采用全自動控制系統，能控制工藝溫度、膜層厚度，能對微孔內壁鍍膜；

8、設備對于環氧樹脂等電路板基體及其導通孔上沉積金屬膜膜層可進行連續式生產線鍍膜。

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注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果